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[讨论] 带状线与微带线铺铜时的间距问题!!!

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发表于 2010-4-9 15:34:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
带状线与微带线铺铜时的间距问题

不知道大家在带状线铺铜的时候与GND的距离 是如何设定的?

这个距离很重要的啊  对于阻抗控制而言。

目前我听过两种:

1、2H --就是 带状线距离铺铜GND为2倍 PCB板介质厚度。微带线也一样。

2、3W---就是3倍线宽,空间不足时候也可以2倍线宽。

请问,大家都采用哪种距离啊?


望 大虾积极建言

不胜感激啊
发表于 2010-4-10 10:00:41 | 显示全部楼层
尽量宽吧,好像不止3h能满足,凭经验
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发表于 2010-6-17 15:41:11 | 显示全部楼层
QQQQQQQQQQQQQQQQ
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发表于 2010-6-17 16:33:28 | 显示全部楼层
一般的处理方法是3W吧
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发表于 2010-6-18 10:12:01 | 显示全部楼层
oooooooooooo
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发表于 2010-7-18 14:03:01 | 显示全部楼层
做Layout比较累,纯体力活
, 一般是3W吧
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发表于 2010-7-20 10:08:10 | 显示全部楼层
提醒楼主下,是20H 原则。 而且意思也不对 搜索下看看吧
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发表于 2010-8-10 17:48:49 | 显示全部楼层
【文件名】:10810@52RD_例子.doc
【格 式】:doc
【大 小】:43K
【简 介】:
【目 录】:
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发表于 2010-8-10 17:49:27 | 显示全部楼层
我一直的作法是:射频线和地之间的间隙是射频线宽度一倍,如附件所示
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发表于 2010-8-12 22:26:34 | 显示全部楼层
准确来说就是按照2H
只不过平时H和线宽差不太多,所以就有了3W的说法
区别不大
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发表于 2018-7-23 16:32:52 | 显示全部楼层
定顶定顶定顶定顶定顶定顶定顶定顶
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