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[资料] Substrate Isolation in 0.18um CMOS Technology

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发表于 2006-6-25 11:33:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
这是Razavi的一个关于衬底隔离的材料。
1- Introduction
2- Method of study
3- Coupling within Psub with Pwell
4- Impact of P+ Guard Ring
5- Impact of Deep Nwell
6- Impact separation of Deep Nwells
7- Comparison with SOI
8- Conclusion

【文件名】:06625@52RD_Rezvani_6_5.pdf
【格 式】:pdf
【大 小】:244K
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发表于 2008-1-12 12:01:00 | 显示全部楼层
G. Ali Rezvani and Jon Tao
请楼主注意,作者是以上,而并非Razavi.
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