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[讨论] 突破3D IC設計挑戰  TSV CIS價跌量升

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发表于 2010-6-15 11:10:20 | 显示全部楼层 |阅读模式
三維矽穿孔(3D TSV)的技術好處相當多,但是不同的互補式金屬氧化物影像感測器(CIS)特性影響結構甚鉅。如若不是採用晶元背後感光技術(Backside Illumination, BSI),則CIS的晶粒一定向上;TSV就必須根據球柵陣列(BGA)的落角設計。有關CIS設計(含TSV)技術的挑戰,包含光學設計、鏡片材料、量測、晶圓級封裝(WLP)與智財權的問題(Legal Aspects),以下一一介紹:

【文件名】:10615@52RD_突破3D IC設計挑戰  TSV CIS價跌量升.doc
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发表于 2010-6-16 17:48:22 | 显示全部楼层
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发表于 2010-6-17 16:48:57 | 显示全部楼层
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