找回密码
 注册
搜索
查看: 923|回复: 1

[资料] Substrate Isolation in 0.18um CMOS Technology

[复制链接]
发表于 2006-6-25 11:33:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
这是Razavi的一个关于衬底隔离的材料。
1- Introduction
2- Method of study
3- Coupling within Psub with Pwell
4- Impact of P+ Guard Ring
5- Impact of Deep Nwell
6- Impact separation of Deep Nwells
7- Comparison with SOI
8- Conclusion

【文件名】:06625@52RD_Rezvani_6_5.pdf
【格 式】:pdf
【大 小】:244K
【简 介】:
【目 录】:


本帖子中包含更多资源

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

×
发表于 2008-1-12 12:01:00 | 显示全部楼层
G. Ali Rezvani and Jon Tao
请楼主注意,作者是以上,而并非Razavi.
点评回复

使用道具 举报

高级模式
B Color Image Link Quote Code Smilies

本版积分规则

Archiver|手机版|小黑屋|52RD我爱研发网 ( 沪ICP备2022007804号-2 )

GMT+8, 2024-11-24 00:28 , Processed in 0.045607 second(s), 18 queries , Gzip On.

Powered by Discuz! X3.5

© 2001-2023 Discuz! Team.

快速回复 返回顶部 返回列表