成品率驱动的光刻校正技术

Louise

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【简　介】:
摘 要：光刻校正技术已成为超深亚微米下集成电路设计和制造中关键的技术。简要介绍了几种典型的光刻校正技术的基本原理以及在IC设计中使用这些技术需要注意的问题，为可制造性设计提供有价值的指导。
关键词：光刻；光学邻近校正；移相掩模；可制造性设计
【目　录】:
1 引言
2 几种典型光刻校正技术
3 需要考虑的几个问题
4 结束语