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[讨论] Cmos 模拟电路基础(一)转载

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发表于 2007-7-23 14:43:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
写这个文章的目的是为了这段时间的学习作个笔记,同时激励自己继续下去。
1,  NMOS管的V-I特性
[upload=gif]UploadFile/2007-7/07723@52RD_5.1.gif[/upload]
非饱和区的I-V特性。  ( 0 < Vds < Vgs – Vtn  )
Vd = u E
其中,u为电子迁移率, E=V/l, 为导体内的场强。
Ids = 0.5*K*(W/L)*[2*(Vgs – Vtn)*Vds – Vds*exp2]
其中,K为器件的跨导系数,K= u*Cox = (u*ε0*εox)/ tox
用βn表示器件的增益系数,βn = K* (W/L)


饱和区的I-V特性。  ( 0 < Vgs - Vtn < Vds  )
随着Vds的增大,沟道漏端的导电层会减薄,当Vds = Vgs – Vtn时,它被夹断。当Vds继续增大,夹断点向源端移动。此时,沟道两端电压保持为 (Vgs – Vtn),而Vds的增加部分落在夹断耗尽区内,Ids几乎不变。如果夹断耗尽区的长度远小于L,忽略沟道长度的缩短,用Vgs – Vtn = Vds 带入得到饱和区的电流表达式为
Ids = 0.5*K*(W/L)*[(Vgs – Vtn)*exp2]
但是,当考虑沟道长度调制效应时,
Ids = 0.5*K*(W/L)*[(Vgs – Vtn)*exp2]*(1+λ*Vds)
试验证明,λ是沟道长度的线性函数。


截止区 ( Vgs – Vtn < = 0)
Ids = 0.


PMOS管的V-I特性,
它的偏压与极性与NMOS相反。但是,由于电子的迁移率与空穴的迁移率不等,前者是后者的2~3倍,因此,Kn= (2.0~3.0)Kp


2,  MOS管的小信号模型
输入信号的幅度一般与电源电压相比很小,它在直流偏置工作点附近变化,可以近似认为器件工作在线性区间。大信号可以确定器件的直流工作点,小信号可以用来设计器件和电路的性能。
对于在饱和区工作的mos,
gm = K*(W/L)*(Vgs – Vtn)*(1+λ*Vds)  其中,gm 是栅跨导
gds = 1/rds = ( Ids *λ)/(1+λ*Vds ) =λIds
其中,rds 是mos管的输出电阻。由该式可见,通过减小λ和减小Ids可以达到提高输出电阻的目的。而要减小λ,必须增大L


3, CMOS电路的基本模块
MOS开关
开关导通时,Vds很小,Vgs很大,即MOS管处于非饱和区。
Id = K*W/L *(Vgs – Vt )*Vds
其中,0 &lt; Vds <VGS NMOS –Vt. 管的大信号沟道电阻是   
Ron = L / [K*W*(Vgs – Vg –Vds)]

Note:MOS管的最大转换速率主要由他的寄生电容和外部电阻决定。MOS开关的主要性能之一是开关的端电压与控制电压的相对范围。在N沟的MOS管中,为保证开关接通,栅电压必须远大于源极或漏极电压。否则,如果Vgs = Vdd, 且开关一端电压也为Vdd,则另外一端只能得到Vdd – Vt的电压。 因为在导通过程中,Vgs在减小,当Vgs=Vt,管子便截止了。


有源电阻:
在集成电路中,MOS管的有源电阻常用来代替扩散电阻或polysilide ,或得直流电阻或小信号交流电阻,以便节省芯片面积。
将mos 管的栅极和漏极连接起来,就构成了有源电阻。

[upload=gif]UploadFile/2007-7/07723@52RD_5.2.gif[/upload]
Vgs = Vds,此时,只要Vds &gt; Vt, 显然MOS管工作在饱和区。
I = Id = k*W/(2*L)*(Vgs – Vt)exp2
V = Vgs =Vds = Vt +(2*Id*L / K*W)exp (0.5)
mos 管的栅极和漏极连接起来意味着用Vds 控制Id,因此,沟道跨导变成了沟道电导,其小信号电导用g表示
g =K*W/L*(V-Vt)

note:有源电阻可以作为有源电阻的分压器,

[upload=gif]UploadFile/2007-7/07723@52RD_5.3.gif[/upload]

有时用两个有源电阻串联代替一个电阻,是为了节省栅极面积。


电流阱和电流源
电流阱和电流源都是两端元件。在理想情况下,他们的电流值与加在两端的电压无关,始终保持为常数。它们常被用来作为各级放大的偏置元件和有源负载,以提供稳定的工作电流和较大的动态电阻。
电流阱对负载提供拉电流或吸收电流,其端电压只有大于Vmin,或器件工作在饱和区才可产生近似不变的电流。


镜像电流源
[upload=gif]UploadFile/2007-7/07723@52RD_5.4.gif[/upload]
如图:由于Vdg1=0,只要Vds1&gt;Vt1,二极管连接的M1总处于饱和状态。由于Vgs1=Vgs2,如果Vds2&gt;Vgs1-Vt2,则M2也工作在饱和区。它就是上面的单管电流阱,输出恒定电流。他的电压偏置是通过Iref的偏置实现的。
如果M1=M2,则Id2=Iref
但是当Iref变化时,或M2的W/L比值变化时,输出电流Id2也发生变化。
Iout / Iin = Id2/Id1 = Kn2*W2*L1*(1+λ2*Vds2) / Kn1*W1*L2*(1+λ1*Vds1)
由此,我们可以通过W和L的参数的确定来调节镜像电流源的增益,也可以采用多个不同宽长比的M2器件,对同一参数电流Iref得到多个不同数值得电流。
Rout = 1 / (λ*Id)

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发表于 2007-11-16 19:36:26 | 显示全部楼层
怎么没人顶起啊??
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发表于 2007-11-23 09:57:27 | 显示全部楼层
ding.....................
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发表于 2008-2-27 15:22:33 | 显示全部楼层
顶[em05][em08][em08]
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